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文章詳情
半導體行業(yè)的真空控制方案
日期：2025-05-13 19:35
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摘要：
在半導體制造中，英?？档恼婵湛刂飘a(chǎn)品可應用于各種工藝步驟，確保精準控制零件及設備生產(chǎn)所必需的真空條件。
并且，我們的產(chǎn)品技術(shù)在全球范圍的眾多客戶(hù)處都得到應用與印證，是能夠幫助企業(yè)提高生產(chǎn)力、效率、正常運行時(shí)間和產(chǎn)量的很好方案。
晶體拉制
在晶體拉制過(guò)程中，英?？档碾娙菡婵沼嬒盗锌梢钥刂评魄粌鹊墓に噳毫?，從而生長(cháng)出無(wú)瑕的硅晶體。這種精準的壓力控制對于實(shí)現*佳晶體生長(cháng)至關(guān)重要，并有助于提高半導體材料的質(zhì)量和純度。
氧化/柵極電介質(zhì)和離子注入 ...
在半導體制造中，英?？档恼婵湛刂飘a(chǎn)品可應用于各種工藝步驟，確保精準控制零件及設備生產(chǎn)所必需的真空條件。
并且，我們的產(chǎn)品技術(shù)在全球范圍的眾多客戶(hù)處都得到應用與印證，是能夠幫助企業(yè)提高生產(chǎn)力、效率、正常運行時(shí)間和產(chǎn)量的很好方案。
晶體拉制
在晶體拉制過(guò)程中，英?？档碾娙菡婵沼嬒盗锌梢钥刂评魄粌鹊墓に噳毫?，從而生長(cháng)出無(wú)瑕的硅晶體。這種精準的壓力控制對于實(shí)現*佳晶體生長(cháng)至關(guān)重要，并有助于提高半導體材料的質(zhì)量和純度。
氧化/柵極電介質(zhì)和離子注入
在氧化/柵極電介質(zhì)和離子注入等工藝中，英?？档恼婵湛刂飘a(chǎn)品可確保穩定的真空環(huán)境。電容真空計系列可監控工藝壓力，而皮拉尼真空計和冷陰極真空計則可提供全系統壓力控制。這種細致的調節對于獲得理想的材料特性和摻雜精度至關(guān)重要，從而直接影響到半導體器件的性能。
光刻技術(shù)
在光刻工藝中，英?？嫡婵湛刂平鉀Q方案（包括電容真空計和皮拉尼真空計）以及熱離子真空計和冷陰極真空計可實(shí)現工藝系統內精準的壓力控制。
真空元件可確保無(wú)泄漏連接，有助于提高光刻工藝的穩定性和準確性。
蝕刻
在蝕刻工藝中，英?？档恼婵湛刂飘a(chǎn)品，特別是電容式真空計，可調節工藝壓力，實(shí)現精準的材料去除。電容計、皮拉尼計、熱離子計和冷陰極的組合則可實(shí)現全系統的壓力控制，以確保蝕刻的一致性和高工藝可重復性。
此外，采用了光學(xué)氣體分析裝置的 Augent® OPG550 能夠監測蝕刻過(guò)程中使用的氣體成分，進(jìn)一步確保工藝穩定性和精準的材料去除。
CVD、PVD、ALD、EPI 和 RTP
在 CVD、PVD、ALD、EPI 和 RTP 等工藝中，英?？档恼婵湛刂飘a(chǎn)品在調節工藝壓力、確保材料精準沉積和開(kāi)發(fā)方面發(fā)揮著(zhù)重要作用。
電容真空計系列可監控過(guò)程壓力，而熱離子計、冷陰極和真空配件則有助于進(jìn)行穩定的系統壓力控制，提高過(guò)程均勻性和設備性能。我們的光學(xué)氣體分析儀 Augent® OPG550 能夠監控材料沉積過(guò)程中的氣體成分，確保*佳條件。
